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一种闭合磁场非平衡磁控溅射镀膜设备
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201220209547.9
申请日：
2012-05-09
公开(公告)号：
CN202643826U
公开(公告)日：
2013-01-02
发明(设计)人：
金广福
申请人：
申请人地址：
110168 辽宁省沈阳市浑南新区汇泉东路10号
IPC主分类号：
C23C1435
IPC分类号：
C23C1400
代理机构：
沈阳东大专利代理有限公司 21109
代理人：
李运萍
法律状态：
专利权的终止
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2019-04-30 | 专利权的终止 | 未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20120509 授权公告日:20130102 终止日期:20180509 |
| 2013-01-02 | 授权 | 授权 |