非平衡磁控溅射电极及系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610533761.2

申请日：

2016-07-07

公开(公告)号：

CN105908147A

公开(公告)日：

2016-08-31

发明(设计)人：

石永敬

申请人：

申请人地址：

401331 重庆市沙坪坝区大学城东路20号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316

代理人：

滑春生

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-08-31	公开	公开
2016-09-28	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101680689143 IPC(主分类):C23C 14/35 专利申请号:2016105337612 申请日:20160707
2022-08-26	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/35 登记生效日:20220817 变更事项:专利权人变更前权利人:重庆科技学院变更后权利人:重庆花喜鹊科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:401331 重庆市沙坪坝区大学城东路20号变更后权利人:401331 重庆市沙坪坝区重庆科技学院体育馆楼1层1003室
2017-07-21	授权	授权

共 50 条

[1]

磁极辅助非平衡磁控溅射装置 [P].

石永敬 .

中国专利 :CN106637109A ,2017-05-10

[2]

磁控管溅射方法、磁控溅射电极及其装置 [P].

何宁 ;

韩拓扬 ;

潘高 .

中国专利 :CN103290377A ,2013-09-11

[3]

闭合磁场非平衡磁控溅射镀膜设备 [P].

金广福 .

中国专利 :CN102653857A ,2012-09-05

[4]

一种多维磁控溅射装置及磁控溅射系统 [P].

明昕 ;

王君 ;

王利晨 ;

熊杰夫 ;

满其奎 ;

沈保根 .

中国专利 :CN120082857A ,2025-06-03

[5]

一种非平衡磁控溅射镀锌装置 [P].

马志洋 .

中国专利 :CN206814838U ,2017-12-29

[6]

一种非平衡磁控溅射镀钽装置 [P].

陈光英 ;

王国华 ;

宋坤 ;

刘江 .

中国专利 :CN216808951U ,2022-06-24

[7]

一种等离子体增强非平衡磁控溅射方法 [P].

徐军 ;

马腾才 ;

邓新绿 ;

张家良 ;

陆文祺 ;

董闯 .

中国专利 :CN1338530A ,2002-03-06

[8]

一种闭合磁场非平衡磁控溅射镀膜设备 [P].

金广福 .

中国专利 :CN202643826U ,2013-01-02

[9]

靶头、磁控溅射靶枪及磁控溅射系统 [P].

程厚义 ;

赵巍胜 ;

张博宇 ;

姚宇暄 ;

柳洋 .

中国专利 :CN113846304B ,2021-12-28

[10]

磁控溅射系统 [P].

杨恺 ;

林海天 ;

李立升 ;

刘贵 .

中国专利 :CN115323335B ,2024-02-23

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