靶头、磁控溅射靶枪及磁控溅射系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111419111.2

申请日：

2021-11-26

公开(公告)号：

CN113846304B

公开(公告)日：

2021-12-28

发明(设计)人：

程厚义赵巍胜张博宇姚宇暄柳洋

申请人：

申请人地址：

100191 北京市海淀区学院路37号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1454

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

韩嫚嫚;钱能

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-12-28	公开	公开
2022-02-11	授权	授权
2022-01-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20211126

共 50 条

[1]

磁控溅射靶及采用该磁控溅射靶的磁控溅射装置 [P].

裴绍凯 .

中国专利 :CN101988189A ,2011-03-23

[2]

一种磁控溅射靶材、磁控溅射靶及磁控溅射设备 [P].

魏钰 ;

宋博韬 ;

成军 ;

刘宁 .

中国专利 :CN205934012U ,2017-02-08

[3]

磁控溅射靶材及磁控溅射装置 [P].

李晨光 .

中国专利 :CN204022932U ,2014-12-17

[4]

磁控溅射靶 [P].

刘洋 ;

汪振南 ;

见东伟 ;

杨永雷 .

中国专利 :CN111621754A ,2020-09-04

[5]

磁控溅射靶材及磁控溅射装置 [P].

叶飞 ;

王金 ;

余义 .

中国专利 :CN223201906U ,2025-08-08

[6]

磁控溅射靶 [P].

王君久 ;

陈国华 ;

祝世国 .

中国专利 :CN202865323U ,2013-04-10

[7]

磁控溅射靶 [P].

周颖 ;

刘丽华 .

中国专利 :CN201634757U ,2010-11-17

[8]

磁控溅射靶 [P].

刘洋 ;

汪振南 ;

见东伟 ;

杨永雷 .

中国专利 :CN210104059U ,2020-02-21

[9]

磁控溅射靶 [P].

裴绍凯 .

中国专利 :CN101956170A ,2011-01-26

[10]

磁控溅射靶 [P].

马磊 ;

李子云 ;

张浙军 .

中国专利 :CN201506829U ,2010-06-16

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