用于对半导体部件进行控制的方法和设备

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专利类型
发明
申请号
CN200910178328.1
申请日
2009-10-16
公开(公告)号
CN101729052A
公开(公告)日
2010-06-09
发明(设计)人
马丁·莱特宁
申请人
申请人地址
芬兰赫尔辛基
IPC主分类号
H03K1794
IPC分类号
代理机构
北京市浩天知识产权代理事务所 11276
代理人
刘云贵
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
用于对半导体设备进行分类的方法 [P]. 
李相允 ;
林双根 .
中国专利 :CN101194353A ,2008-06-04
[2]
用于对半导体衬底进行处理的方法和设备 [P]. 
克努特·比克曼 ;
盖伊·帕特里克·塔克 .
中国专利 :CN1302453A ,2001-07-04
[3]
对半导体工件进行处理的半导体设备及方法 [P]. 
蔡承祐 ;
杨固峰 ;
邱文智 .
中国专利 :CN114334638A ,2022-04-12
[4]
对半导体基底进行化学处理的设备和方法 [P]. 
彼得·法斯 ;
伊霍尔·梅尔尼克 .
中国专利 :CN108292616A ,2018-07-17
[5]
用于对半导体开关进行驱控的方法和装置 [P]. 
迪尔克·博舍 ;
恩斯特-迪特尔·威尔克宁 .
中国专利 :CN109643995A ,2019-04-16
[6]
对半导体开关的控制 [P]. 
帕西·伏特 .
中国专利 :CN107735949A ,2018-02-23
[7]
用于对半导体器件的检测设备进行测试的装置和方法 [P]. 
白玉杰 ;
张泽昊 ;
晏小龙 ;
李笑晗 ;
叶宇 ;
李鹏 ;
杨帆 ;
王琰 .
中国专利 :CN120428153A ,2025-08-05
[8]
对半导体工艺进行建模的方法和系统 [P]. 
崔翰林 ;
卢弦均 ;
金昇昱 ;
孙秀沇 ;
郑载勋 ;
崔允智 .
韩国专利 :CN120030971A ,2025-05-23
[9]
用于对半导体晶圆进行等离子切割的方法和设备 [P]. 
克里斯·约翰逊 ;
大卫·约翰逊 ;
鲁塞尔·韦斯特曼 ;
林内尔·马丁内斯 ;
大卫·佩斯-沃拉德 .
中国专利 :CN103460350A ,2013-12-18
[10]
用于对半导体特征结构进行分配的方法 [P]. 
周恒宇 ;
李思坤 ;
张涛 ;
熊诗圣 .
中国专利 :CN117891134A ,2024-04-16