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曝光系统及其曝光方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN02145826.X
申请日
:
2002-10-14
公开(公告)号
:
CN1490673A
公开(公告)日
:
2004-04-21
发明(设计)人
:
林本坚
申请人
:
申请人地址
:
台湾省新竹
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
G03F7207
代理机构
:
隆天国际知识产权代理有限公司
代理人
:
陈红;潘培坤
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2006-03-15
授权
授权
2004-06-30
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-04-21
公开
公开
共 50 条
[1]
曝光装置、曝光系统及曝光方法
[P].
万冀豫
论文数:
0
引用数:
0
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万冀豫
;
吴洪江
论文数:
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吴洪江
;
黄常刚
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黄常刚
;
王耸
论文数:
0
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王耸
;
张继凯
论文数:
0
引用数:
0
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张继凯
.
中国专利
:CN103353710A
,2013-10-16
[2]
曝光方法以及曝光系统
[P].
桥本圣昭
论文数:
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机构:
优志旺电机株式会社
优志旺电机株式会社
桥本圣昭
;
高松大辅
论文数:
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机构:
优志旺电机株式会社
优志旺电机株式会社
高松大辅
;
高桥辽太郎
论文数:
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机构:
优志旺电机株式会社
优志旺电机株式会社
高桥辽太郎
;
比企达也
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机构:
优志旺电机株式会社
优志旺电机株式会社
比企达也
;
野北宽太
论文数:
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机构:
优志旺电机株式会社
优志旺电机株式会社
野北宽太
.
日本专利
:CN118215890A
,2024-06-18
[3]
曝光系统、曝光装置及曝光方法
[P].
蓝科
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蓝科
;
戈亚萍
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戈亚萍
;
陈勇辉
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陈勇辉
.
中国专利
:CN107092166A
,2017-08-25
[4]
曝光系统、曝光装置以及曝光方法
[P].
川上雄介
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川上雄介
;
布川泰辉
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布川泰辉
.
中国专利
:CN113574459A
,2021-10-29
[5]
曝光系统、曝光系统的控制装置以及曝光系统的控制方法
[P].
大畑公孝
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大畑公孝
;
木村忠信
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木村忠信
;
大河原直人
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大河原直人
.
中国专利
:CN103999192A
,2014-08-20
[6]
曝光机构、曝光装置及曝光系统
[P].
张迅
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张迅
;
易伟华
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易伟华
;
刘芳
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刘芳
;
刘松林
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刘松林
.
中国专利
:CN107908079B
,2018-04-13
[7]
曝光方法及曝光系统
[P].
廖绍良
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廖绍良
;
胡传武
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胡传武
;
张雷
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0
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0
张雷
.
中国专利
:CN111999990B
,2020-11-27
[8]
曝光装置和曝光系统
[P].
陈云飞
论文数:
0
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0
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陈云飞
.
中国专利
:CN207895226U
,2018-09-21
[9]
曝光装置及曝光系统
[P].
查长军
论文数:
0
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查长军
;
黎敏
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黎敏
;
吴洪江
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吴洪江
.
中国专利
:CN103885298B
,2014-06-25
[10]
曝光系统及曝光方法
[P].
汪杰
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机构:
昆山龙腾光电股份有限公司
昆山龙腾光电股份有限公司
汪杰
;
杨莉
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机构:
昆山龙腾光电股份有限公司
昆山龙腾光电股份有限公司
杨莉
.
中国专利
:CN113759672B
,2024-06-11
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