曝光方法以及曝光系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202280074624.0

申请日：

2022-09-14

公开(公告)号：

CN118215890A

公开(公告)日：

2024-06-18

发明(设计)人：

桥本圣昭高松大辅高桥辽太郎比企达也野北宽太

申请人：

优志旺电机株式会社株式会社阿迪泰克工程公益财团法人福冈县产业·科学技术振兴财团

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

G03F9/00

IPC分类号：

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

徐殿军

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-06-18	公开	公开
2024-07-05	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 9/00申请日:20220914

共 50 条

[1]

曝光系统、曝光装置以及曝光方法 [P].

川上雄介 ;

布川泰辉 .

中国专利 :CN113574459A ,2021-10-29

[2]

曝光系统、曝光系统的控制装置以及曝光系统的控制方法 [P].

大畑公孝 ;

木村忠信 ;

大河原直人 .

中国专利 :CN103999192A ,2014-08-20

[3]

曝光方法、器件制造方法、曝光装置、以及曝光系统 [P].

渡边阳司 .

日本专利 :CN118871862A ,2024-10-29

[4]

曝光装置、曝光系统及曝光方法 [P].

万冀豫 ;

吴洪江 ;

黄常刚 ;

王耸 ;

张继凯 .

中国专利 :CN103353710A ,2013-10-16

[5]

曝光系统及其曝光方法 [P].

林本坚 .

中国专利 :CN1490673A ,2004-04-21

[6]

曝光系统、曝光装置及曝光方法 [P].

蓝科 ;

戈亚萍 ;

陈勇辉 .

中国专利 :CN107092166A ,2017-08-25

[7]

曝光机构、曝光装置及曝光系统 [P].

张迅 ;

易伟华 ;

刘芳 ;

刘松林 .

中国专利 :CN107908079B ,2018-04-13

[8]

操作投射曝光系统的方法以及投射曝光系统 [P].

M·郎根霍斯特 ;

F·莱舍尔 ;

W·韦斯 ;

H·M·史蒂潘 ;

A·迪拉夫 .

德国专利 :CN119317869A ,2025-01-14

[9]

曝光方法及曝光系统 [P].

廖绍良 ;

胡传武 ;

张雷 .

中国专利 :CN111999990B ,2020-11-27

[10]

曝光装置和曝光系统 [P].

陈云飞 .

中国专利 :CN207895226U ,2018-09-21

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