操作投射曝光系统的方法以及投射曝光系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380045290.9

申请日：

2023-05-10

公开(公告)号：

CN119317869A

公开(公告)日：

2025-01-14

发明(设计)人：

M·郎根霍斯特 F·莱舍尔 W·韦斯 H·M·史蒂潘 A·迪拉夫

申请人：

卡尔蔡司SMT有限责任公司

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王蕊瑞

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-27	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/00申请日:20230510
2025-01-14	公开	公开

共 50 条

[1]

光学系统、投射曝光系统和方法 [P].

M·冯霍登伯格 ;

T·格鲁纳 .

德国专利 :CN118251634A ,2024-06-25

[2]

光学系统和投射曝光系统 [P].

S·奥兹图尔克 ;

G·林巴赫 .

德国专利 :CN120752584A ,2025-10-03

[3]

曝光系统、曝光系统的控制装置以及曝光系统的控制方法 [P].

大畑公孝 ;

木村忠信 ;

大河原直人 .

中国专利 :CN103999192A ,2014-08-20

[4]

曝光方法以及曝光系统 [P].

桥本圣昭 ;

高松大辅 ;

高桥辽太郎 ;

比企达也 ;

野北宽太 .

日本专利 :CN118215890A ,2024-06-18

[5]

投射曝光系统的照明光学单元 [P].

M.帕特拉 ;

S.比林 ;

M.德冈瑟 ;

R.米勒 .

中国专利 :CN106716254B ,2017-05-24

[6]

曝光系统、曝光装置以及曝光方法 [P].

川上雄介 ;

布川泰辉 .

中国专利 :CN113574459A ,2021-10-29

[7]

曝光系统及曝光系统的降温方法 [P].

赵鹏 ;

陈超 ;

任轩达 .

中国专利 :CN113917804A ,2022-01-11

[8]

曝光系统的控制方法和曝光系统 [P].

卞洪飞 ;

董帅 ;

高利军 .

中国专利 :CN112596346B ,2021-04-02

[9]

用于投射曝光设备的模块、方法以及投射曝光设备 [P].

M·曼格 .

德国专利 :CN120500665A ,2025-08-15

[10]

曝光系统 [P].

崔凤珍 ;

金龙焕 .

中国专利 :CN103119519B ,2013-05-22

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