光学系统和投射曝光系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202480015884.X

申请日：

2024-02-13

公开(公告)号：

CN120752584A

公开(公告)日：

2025-10-03

发明(设计)人：

S·奥兹图尔克 G·林巴赫

申请人：

卡尔蔡司SMT有限责任公司

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G02B7/182 G02B7/198 G02B27/62

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王蕊瑞

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-03	公开	公开

共 50 条

[1]

光学系统、投射曝光系统和方法 [P].

M·冯霍登伯格 ;

T·格鲁纳 .

德国专利 :CN118251634A ,2024-06-25

[2]

光学系统和投射曝光装置 [P].

S·亨塞勒 ;

T·赫格尔 ;

D·杜尔 ;

J·克鲁伊斯 ;

C·维尔纳 .

德国专利 :CN120359471A ,2025-07-22

[3]

用于投射曝光系统的光学元件、包括该光学元件的光学系统以及包括该光学元件和/或该光学系统的投射曝光系统 [P].

S·A·毕西 ;

W·谢尔曼 ;

T·富泽尼格 ;

D·佩茨 ;

M·纳夫兹 ;

J·普罗克恩瑙 ;

J·库格勒 ;

M·费特泽尔 .

德国专利 :CN120019331A ,2025-05-16

[4]

微光刻曝光系统的光学系统 [P].

M·托特泽克 ;

S·贝德 ;

W·克劳斯 ;

H·费尔德曼 ;

D·克拉默 ;

A·多多克 .

中国专利 :CN102207691A ,2011-10-05

[5]

光学系统和投射曝光设备 [P].

M·施温克 .

德国专利 :CN120322731A ,2025-07-15

[6]

成像光学系统和投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根.曼 ;

威廉.乌尔里克 ;

斯蒂芬.马伦德 ;

哈特穆特.恩基希 .

中国专利 :CN102749810A ,2012-10-24

[7]

成像光学系统和投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根·曼 ;

威廉·乌尔里克 ;

斯蒂芬·马伦德 ;

哈特穆特·恩基希 .

中国专利 :CN101836165B ,2010-09-15

[8]

成像光学系统和投射曝光设备 [P].

A.埃普尔 ;

R.米勒 ;

H-J.罗斯塔尔斯基 .

中国专利 :CN104380169A ,2015-02-25

[9]

微光刻曝光系统的光学系统 [P].

M·托特泽克 ;

S·贝德 ;

W·克劳斯 ;

H·费尔德曼 ;

D·克拉默 ;

A·多多克 .

中国专利 :CN101263432B ,2008-09-10

[10]

光学组件、光学系统及投射曝光设备 [P].

R·奥尔利克 .

德国专利 :CN120693554A ,2025-09-23

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