光学系统和投射曝光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380087717.1

申请日：

2023-12-19

公开(公告)号：

CN120359471A

公开(公告)日：

2025-07-22

发明(设计)人：

S·亨塞勒 T·赫格尔 D·杜尔 J·克鲁伊斯 C·维尔纳

申请人：

卡尔蔡司SMT有限责任公司

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G02B7/182

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王蕊瑞

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-22	公开	公开
2025-08-08	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20231219

共 50 条

[1]

光学系统和投射曝光系统 [P].

S·奥兹图尔克 ;

G·林巴赫 .

德国专利 :CN120752584A ,2025-10-03

[2]

光学系统和投射曝光设备 [P].

M·施温克 .

德国专利 :CN120322731A ,2025-07-15

[3]

光学系统、投射曝光系统和方法 [P].

M·冯霍登伯格 ;

T·格鲁纳 .

德国专利 :CN118251634A ,2024-06-25

[4]

成像光学系统和投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根.曼 ;

威廉.乌尔里克 ;

斯蒂芬.马伦德 ;

哈特穆特.恩基希 .

中国专利 :CN102749810A ,2012-10-24

[5]

成像光学系统和投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根·曼 ;

威廉·乌尔里克 ;

斯蒂芬·马伦德 ;

哈特穆特·恩基希 .

中国专利 :CN101836165B ,2010-09-15

[6]

成像光学系统和投射曝光设备 [P].

A.埃普尔 ;

R.米勒 ;

H-J.罗斯塔尔斯基 .

中国专利 :CN104380169A ,2015-02-25

[7]

光学组件、光学系统及投射曝光设备 [P].

R·奥尔利克 .

德国专利 :CN120693554A ,2025-09-23

[8]

光学组件、光学系统及投射曝光设备 [P].

R·格洛里安 .

德国专利 :CN119907946A ,2025-04-29

[9]

投射曝光设备的光学系统 [P].

M.帕特拉 .

德国专利 :CN111427239B ,2024-09-17

[10]

投射光学单元、光学系统以及投射曝光设备 [P].

M.施瓦布 .

中国专利 :CN111708256A ,2020-09-25

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