半导体结构和形成半导体结构的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410070574.X
申请日
2024-01-18
公开(公告)号
CN118016642A
公开(公告)日
2024-05-10
发明(设计)人
庄学理 吴伟成 蔡智鹏
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址
中国台湾新竹
IPC主分类号
H01L23/544
IPC分类号
H01L21/66 H01L23/48 H01L23/528 H01L21/48
代理机构
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
章社杲;李伟
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体结构和形成半导体结构的方法 [P]. 
李智銘 ;
廖宏哲 ;
庄坤苍 ;
陆为中 .
中国专利 :CN106803493A ,2017-06-06
[2]
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赖启胜 ;
彭宇凡 ;
陈立庭 ;
吕侑珊 ;
吴于贝 ;
孙维中 ;
彭远清 ;
高魁佑 ;
林士尧 ;
林志翰 ;
刘佩宜 ;
颜精一 .
中国专利 :CN113345891B ,2025-02-11
[3]
形成半导体结构的方法和半导体结构 [P]. 
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[4]
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王茂南 ;
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[5]
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黄鸿仪 ;
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王菘豊 ;
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[6]
半导体结构和形成半导体结构的方法 [P]. 
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[7]
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[8]
形成半导体结构的方法和半导体结构 [P]. 
辛格·古尔巴格 ;
王柏仁 ;
庄坤苍 .
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[9]
半导体结构和形成半导体结构的方法 [P]. 
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林芮萍 ;
李振铭 ;
杨复凯 ;
王美匀 .
中国专利 :CN113363155A ,2021-09-07
[10]
半导体结构和形成半导体结构的方法 [P]. 
陈健源 ;
林芮萍 ;
李振铭 ;
杨复凯 ;
王美匀 .
中国专利 :CN113363155B ,2024-05-07