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激光照射系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201780096121.2
申请日
:
2017-12-21
公开(公告)号
:
CN111247625B
公开(公告)日
:
2024-03-08
发明(设计)人
:
若林理
池上浩
老泉博昭
申请人
:
极光先进雷射株式会社
国立大学法人九州大学
申请人地址
:
日本栃木县
IPC主分类号
:
H01L21/22
IPC分类号
:
H01L21/268
代理机构
:
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人
:
金玲;黄纶伟
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-03-08
授权
授权
共 50 条
[1]
激光照射系统
[P].
若林理
论文数:
0
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若林理
;
池上浩
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池上浩
;
老泉博昭
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老泉博昭
.
中国专利
:CN111247625A
,2020-06-05
[2]
激光照射方法和激光照射系统
[P].
池上浩
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池上浩
;
若林理
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若林理
;
老泉博昭
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老泉博昭
;
诹访辉
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诹访辉
.
中国专利
:CN111247626A
,2020-06-05
[3]
激光照射方法和激光照射系统
[P].
池上浩
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机构:
极光先进雷射株式会社
极光先进雷射株式会社
池上浩
;
若林理
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机构:
极光先进雷射株式会社
极光先进雷射株式会社
若林理
;
老泉博昭
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机构:
极光先进雷射株式会社
极光先进雷射株式会社
老泉博昭
;
诹访辉
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机构:
极光先进雷射株式会社
极光先进雷射株式会社
诹访辉
.
日本专利
:CN111247626B
,2024-07-16
[4]
激光照射装置、激光照射方法、及半导体器件的制造方法
[P].
田中博也
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机构:
JSW阿克迪纳系统有限公司
JSW阿克迪纳系统有限公司
田中博也
;
山口芳广
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机构:
JSW阿克迪纳系统有限公司
JSW阿克迪纳系统有限公司
山口芳广
;
小林直之
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机构:
JSW阿克迪纳系统有限公司
JSW阿克迪纳系统有限公司
小林直之
.
日本专利
:CN119836336A
,2025-04-15
[5]
激光照射装置、激光照射方法以及半导体器件的制造方法
[P].
田中博也
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机构:
JSW阿克迪纳系统有限公司
JSW阿克迪纳系统有限公司
田中博也
;
山口芳广
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机构:
JSW阿克迪纳系统有限公司
JSW阿克迪纳系统有限公司
山口芳广
;
小林直之
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机构:
JSW阿克迪纳系统有限公司
JSW阿克迪纳系统有限公司
小林直之
.
日本专利
:CN118872028A
,2024-10-29
[6]
激光照射设备、激光照射方法和用于制造半导体装置的方法
[P].
佐藤亮介
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机构:
JSW阿克迪纳系统有限公司
JSW阿克迪纳系统有限公司
佐藤亮介
;
小林直之
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机构:
JSW阿克迪纳系统有限公司
JSW阿克迪纳系统有限公司
小林直之
.
日本专利
:CN118284955A
,2024-07-02
[7]
激光照射装置
[P].
李源规
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李源规
;
崔宰凡
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崔宰凡
;
吴在焕
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吴在焕
;
张荣真
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张荣真
;
陈圣铉
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0
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0
陈圣铉
.
中国专利
:CN102339739A
,2012-02-01
[8]
激光照射装置
[P].
柿崎弘司
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柿崎弘司
;
诹访辉
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诹访辉
;
若林理
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若林理
.
中国专利
:CN107078454A
,2017-08-18
[9]
激光照射系统及激光照射方法
[P].
李垧泽
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李垧泽
;
申铉喆
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申铉喆
;
郑元雄
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郑元雄
.
中国专利
:CN102034682A
,2011-04-27
[10]
激光照射设备和激光照射方法
[P].
田中幸一郎
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田中幸一郎
;
山本良明
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0
山本良明
.
中国专利
:CN100524629C
,2007-05-23
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