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激光照射装置、激光照射方法以及半导体器件的制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202280091526.8
申请日：
2022-04-21
公开(公告)号：
CN118872028A
公开(公告)日：
2024-10-29
发明(设计)人：
田中博也
山口芳广
小林直之
申请人：
JSW阿克迪纳系统有限公司
申请人地址：
日本神奈川县
IPC主分类号：
H01L21/268
IPC分类号：
H01L21/265
代理机构：
北京市金杜律师事务所 11256
代理人：
马立荣;李早阳
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-03-25 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/268申请日:20220421 |
| 2024-10-29 | 公开 | 公开 |