控制等离子体处理装置的方法和等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202310532831.2

申请日：

2023-05-11

公开(公告)号：

CN117594406A

公开(公告)日：

2024-02-23

发明(设计)人：

张爱仙李贞焕裵珉槿

申请人：

细美事有限公司

申请人地址：

韩国忠清南道

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01L21/67

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

纪雯;孙尚白

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-02-23	公开	公开
2025-05-27	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01J 37/32申请日:20230511

共 50 条

[1]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

池田太郎 .

中国专利 :CN1554114A ,2004-12-08

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 ;

山泽阳平 .

中国专利 :CN102522304A ,2012-06-27

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

永海幸一 ;

鸟井夏实 .

中国专利 :CN109087843A ,2018-12-25

[5]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

宋承润 ;

朴赞训 ;

宣钟宇 ;

成正模 ;

韩济愚 ;

朴珍荣 .

韩国专利 :CN111430207B ,2025-01-21

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

岩田学 ;

中山博之 ;

增泽健二 ;

本田昌伸 .

中国专利 :CN101515545B ,2009-08-26

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 .

日本专利 :CN117480870B ,2024-06-28

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

王汤贵 ;

大石哲也 ;

浦川理史 ;

森北信也 .

日本专利 :CN119522474A ,2025-02-25

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

南象基 ;

林成龙 ;

刘钒镇 ;

宣钟宇 ;

韩奎熙 ;

许桄熀 ;

韩济愚 .

中国专利 :CN109559967A ,2019-04-02

[10]

等离子体处理装置和等离子体控制方法 [P].

輿水地盐 ;

传宝一树 .

中国专利 :CN102376521A ,2012-03-14

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