抛光垫清洗方法及设备

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311559162.4
申请日
2023-11-21
公开(公告)号
CN117359494A
公开(公告)日
2024-01-09
发明(设计)人
周勤学
申请人
西安奕斯伟材料科技股份有限公司 西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请人地址
710000 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室
IPC主分类号
B24B53/017
IPC分类号
代理机构
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
刘伟
法律状态
公开
国省代码
江苏省 常州市
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共 50 条
[1]
研磨垫清洗方法及研磨垫清洗装置、抛光设备 [P]. 
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[2]
抛光垫形貌检测方法及装置、双面抛光设备 [P]. 
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[3]
抛光垫以及抛光设备 [P]. 
杨怀庆 ;
白强强 ;
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[4]
一种抛光垫清洗装置及清洗方法、抛光设备 [P]. 
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[5]
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[6]
抛光垫清洗装置和抛光设备 [P]. 
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[7]
抛光清洗设备及抛光清洗方法 [P]. 
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尹影 ;
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[8]
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[9]
抛光垫清洗装置 [P]. 
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[10]
抛光垫清洗装置 [P]. 
杨兆明 ;
颜凯 ;
中原司 .
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