用于预测投影系统中的像差的方法和设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080020140.9

申请日：

2020-02-10

公开(公告)号：

CN113557476B

公开(公告)日：

2024-04-30

发明(设计)人：

M·阿柯斯塞 L·J·A·凡鲍克霍文

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

张启程

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-04-30	授权	授权

共 50 条

[1]

用于预测投影系统中的像差的方法和设备 [P].

M·阿柯斯塞 ;

L·J·A·凡鲍克霍文 .

中国专利 :CN113557476A ,2021-10-26

[2]

用于预测投影系统中的像差的测量装置和方法 [P].

M·C·沙夫斯玛 ;

M·阿克萨 ;

J·R·唐斯 .

中国专利 :CN111758076A ,2020-10-09

[3]

用于预测投影系统中的像差的测量装置和方法 [P].

M·C·沙夫斯玛 ;

M·阿克萨 ;

J·R·唐斯 .

:CN111758076B ,2024-02-09

[4]

用于确定投影系统的像差的方法和系统 [P].

P·J·M·格林 .

:CN119907948A ,2025-04-29

[5]

用于光刻设备的投影系统的腔室、投影系统、和光刻设备 [P].

弗朗西斯克斯·约翰内斯·约瑟芬·詹森 ;

E·J·阿尔勒马克 ;

J·格泽尔卡 .

:CN118056158A ,2024-05-17

[6]

用于确定光学像差的方法和设备 [P].

D·Y·C·琼 ;

P·C·德赫罗特 ;

约翰内斯·雅各布斯·玛塞尤斯·巴塞尔曼斯 ;

R·J·伍德 .

中国专利 :CN111670413A ,2020-09-15

[7]

确定光刻装置的投影系统的像差的方法 [P].

J·J·M·巴塞曼斯 ;

H·V·科克 .

中国专利 :CN100570487C ,2005-09-28

[8]

投影系统和减小投影系统中的光学噪声的方法 [P].

黄主性 .

中国专利 :CN1979332A ,2007-06-13

[9]

用于增强投影系统中的对比度比的方法和设备 [P].

赵显升 .

中国专利 :CN1702543A ,2005-11-30

[10]

用于车辆的投影系统、车辆和用于运行投影系统的方法 [P].

杨笑非 .

德国专利 :CN119439597A ,2025-02-14

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