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用于预测投影系统中的像差的测量装置和方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201980015239.7
申请日：
2019-01-28
公开(公告)号：
CN111758076B
公开(公告)日：
2024-02-09
发明(设计)人：
M·C·沙夫斯玛
M·阿克萨
J·R·唐斯
申请人：
ASML荷兰有限公司
申请人地址：
荷兰维德霍温
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
代理机构：
北京市金杜律师事务所 11256
代理人：
董莘
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-02-09 | 授权 | 授权 |