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用于确定投影系统的像差的方法和系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202380070773.4
申请日
:
2023-09-14
公开(公告)号
:
CN119907948A
公开(公告)日
:
2025-04-29
发明(设计)人
:
P·J·M·格林
申请人
:
ASML荷兰有限公司
申请人地址
:
荷兰
IPC主分类号
:
G03F7/00
IPC分类号
:
G03F7/20
G01M11/02
G01B9/02098
G01J9/02
G01M11/00
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
王益
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-04-29
公开
公开
2025-10-21
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/00申请日:20230914
共 50 条
[1]
确定光刻装置的投影系统的像差的方法
[P].
J·J·M·巴塞曼斯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
J·J·M·巴塞曼斯
;
H·V·科克
论文数:
0
引用数:
0
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0
H·V·科克
.
中国专利
:CN100570487C
,2005-09-28
[2]
用于预测投影系统中的像差的方法和设备
[P].
M·阿柯斯塞
论文数:
0
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0
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0
M·阿柯斯塞
;
L·J·A·凡鲍克霍文
论文数:
0
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0
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0
L·J·A·凡鲍克霍文
.
中国专利
:CN113557476A
,2021-10-26
[3]
用于预测投影系统中的像差的方法和设备
[P].
M·阿柯斯塞
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
M·阿柯斯塞
;
L·J·A·凡鲍克霍文
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
L·J·A·凡鲍克霍文
.
:CN113557476B
,2024-04-30
[4]
用于预测投影系统中的像差的测量装置和方法
[P].
M·C·沙夫斯玛
论文数:
0
引用数:
0
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0
M·C·沙夫斯玛
;
M·阿克萨
论文数:
0
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0
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0
M·阿克萨
;
J·R·唐斯
论文数:
0
引用数:
0
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0
J·R·唐斯
.
中国专利
:CN111758076A
,2020-10-09
[5]
用于预测投影系统中的像差的测量装置和方法
[P].
M·C·沙夫斯玛
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
M·C·沙夫斯玛
;
M·阿克萨
论文数:
0
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0
机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
M·阿克萨
;
J·R·唐斯
论文数:
0
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0
机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
J·R·唐斯
.
:CN111758076B
,2024-02-09
[6]
用于确定光学像差的方法和设备
[P].
D·Y·C·琼
论文数:
0
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0
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0
D·Y·C·琼
;
P·C·德赫罗特
论文数:
0
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0
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0
P·C·德赫罗特
;
约翰内斯·雅各布斯·玛塞尤斯·巴塞尔曼斯
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0
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0
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0
约翰内斯·雅各布斯·玛塞尤斯·巴塞尔曼斯
;
R·J·伍德
论文数:
0
引用数:
0
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0
R·J·伍德
.
中国专利
:CN111670413A
,2020-09-15
[7]
用于车辆的投影系统、车辆和用于运行投影系统的方法
[P].
杨笑非
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
宝马股份公司
宝马股份公司
杨笑非
.
德国专利
:CN119439597A
,2025-02-14
[8]
用于车辆的投影系统、车辆和用于运行投影系统的方法
[P].
杨笑非
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
宝马股份公司
宝马股份公司
杨笑非
.
德国专利
:CN119087730A
,2024-12-06
[9]
投影系统和驱动投影系统的方法
[P].
J·P·佩蒂埃拉
论文数:
0
引用数:
0
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0
J·P·佩蒂埃拉
;
M·J·理查兹
论文数:
0
引用数:
0
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0
M·J·理查兹
;
C·L·C·勒巴本琼
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0
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0
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0
C·L·C·勒巴本琼
;
A·M·皮雷斯阿里法诺
论文数:
0
引用数:
0
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0
A·M·皮雷斯阿里法诺
.
中国专利
:CN114930810A
,2022-08-19
[10]
投影系统和投影系统的控制方法
[P].
八木雅斗
论文数:
0
引用数:
0
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0
八木雅斗
.
中国专利
:CN114245879A
,2022-03-25
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