用于测量厚度的装置和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311494539.2

申请日：

2023-11-10

公开(公告)号：

CN118049923A

公开(公告)日：

2024-05-17

发明(设计)人：

权五葰玄珍浩

申请人：

三星显示有限公司

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

G01B11/06

IPC分类号：

代理机构：

北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 11641

代理人：

李子光

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-05-17	公开	公开
2025-10-03	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G01B 11/06申请日:20231110

共 50 条

[1]

膜厚度测量装置和膜厚度测量方法 [P].

高柳顺 ;

大竹秀幸 ;

相京秀幸 ;

藤沢泰成 ;

锅岛淳男 .

中国专利 :CN105403178A ,2016-03-16

[2]

海冰厚度测量装置和方法 [P].

孙波 ;

郭井学 ;

李娜 ;

李丙瑞 ;

李群 ;

唐学远 .

中国专利 :CN101482400A ,2009-07-15

[3]

厚度测量装置和厚度测量方法 [P].

金在完 ;

金钟安 ;

姜宙植 ;

陈宗汉 .

中国专利 :CN104279969A ,2015-01-14

[4]

厚度测量装置和厚度测量方法 [P].

本胁淑雄 .

中国专利 :CN107305118A ,2017-10-31

[5]

厚度测量装置和厚度测量方法 [P].

梁海飞 ;

张曜矿 .

中国专利 :CN112212763A ,2021-01-12

[6]

厚度测量装置和厚度测量方法 [P].

梁海飞 ;

张曜矿 .

中国专利 :CN112212763B ,2025-10-03

[7]

厚度测量装置和具有厚度测量装置的磨削装置 [P].

木村展之 ;

泽边大树 ;

能丸圭司 .

中国专利 :CN110940279A ,2020-03-31

[8]

硅片厚度测量装置和硅片厚度测量方法 [P].

吴金隆 .

中国专利 :CN117352409A ,2024-01-05

[9]

用于厚度测量的装置以及用于所述厚度测量的方法 [P].

J·鲍希 ;

J·卡达克 ;

A·朗格 ;

J·施韦德曼 ;

J·万斯 ;

K·-H·斯皮策 ;

H·艾科尔兹 .

中国专利 :CN101669010A ,2010-03-10

[10]

一种厚度测量装置和厚度测量方法 [P].

蔡道炎 ;

王进东 ;

敖学如 ;

饶晓雷 ;

胡伯平 .

中国专利 :CN103868461A ,2014-06-18

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