双面研磨装置的研磨垫粘贴方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202180030765.8
申请日
2021-03-10
公开(公告)号
CN115461194B
公开(公告)日
2024-06-11
发明(设计)人
久富涉生 佐佐木拓也
申请人
信越半导体株式会社
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
B24B37/12
IPC分类号
B24B37/20 H01L21/304
代理机构
北京路浩知识产权代理有限公司 11002
代理人
张晶;刘余婷
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
双面研磨装置的研磨垫粘贴方法 [P]. 
久富涉生 ;
佐佐木拓也 .
中国专利 :CN115461194A ,2022-12-09
[2]
双面研磨方法及双面研磨装置 [P]. 
田中佑宜 ;
天海史郎 .
中国专利 :CN108369908B ,2018-08-03
[3]
工件研磨垫、晶圆双面研磨方法及其研磨装置 [P]. 
崔世勋 ;
具成旻 ;
李昀泽 ;
白宗权 .
中国专利 :CN109590898A ,2019-04-09
[4]
双面研磨方法 [P]. 
田中佑宜 .
中国专利 :CN111405963A ,2020-07-10
[5]
双面研磨机及双面研磨方法 [P]. 
吴康 ;
王庆 ;
杨洪望 ;
何锐楠 ;
魏金波 ;
胡秀媚 .
中国专利 :CN110640621B ,2020-01-03
[6]
双面研磨装置 [P]. 
田中佑宜 ;
丸田将史 .
中国专利 :CN113661030A ,2021-11-16
[7]
双面研磨方法 [P]. 
田中佑宜 .
中国专利 :CN113710421A ,2021-11-26
[8]
双面研磨装置用载具、使用该载具的双面研磨机及双面研磨方法 [P]. 
上野淳一 .
中国专利 :CN100481341C ,2008-02-20
[9]
一种研磨垫清洗装置及双面研磨机 [P]. 
崔世勋 .
中国专利 :CN110340798A ,2019-10-18
[10]
晶圆双面研磨组件和双面研磨机 [P]. 
苗家旺 ;
吕芳栋 ;
罗鸿 ;
郝运达 .
中国专利 :CN222843821U ,2025-05-09