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基片处理方法和基片处理装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201980055337.3
申请日
:
2019-08-09
公开(公告)号
:
CN112585730B
公开(公告)日
:
2024-04-19
发明(设计)人
:
松永浩一
申请人
:
东京毅力科创株式会社
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L21/31
IPC分类号
:
H01L21/312
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳;徐飞跃
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-04-19
授权
授权
共 50 条
[1]
基片处理方法和基片处理装置
[P].
松永浩一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
松永浩一
.
中国专利
:CN112585730A
,2021-03-30
[2]
基片处理装置和基片处理方法
[P].
立花康三
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
立花康三
;
山下海誓
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山下海誓
.
日本专利
:CN120814031A
,2025-10-17
[3]
基片处理方法和基片处理装置
[P].
矢崎晃平
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
矢崎晃平
;
土桥和也
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
土桥和也
;
永原诚司
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
永原诚司
.
日本专利
:CN121165396A
,2025-12-19
[4]
基片处理装置和基片处理方法
[P].
藤田阳
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
藤田阳
.
日本专利
:CN116210074B
,2025-11-25
[5]
基片处理装置、基片处理系统和基片处理方法
[P].
小森荣一
论文数:
0
引用数:
0
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0
小森荣一
.
中国专利
:CN111206235A
,2020-05-29
[6]
基片处理装置、基片处理方法和基片
[P].
小原隆宪
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小原隆宪
;
毛利信彦
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
毛利信彦
.
日本专利
:CN118016559A
,2024-05-10
[7]
基片处理装置、基片处理方法和基片处理程序
[P].
末政凉
论文数:
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
末政凉
;
大村和久
论文数:
0
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大村和久
.
日本专利
:CN119487617A
,2025-02-18
[8]
基片处理装置和基片处理方法
[P].
日高章一郎
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
日高章一郎
;
池田朋生
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
池田朋生
;
碛本荣一
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
碛本荣一
;
岩永和也
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0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
岩永和也
;
林圣人
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
林圣人
.
日本专利
:CN110783226B
,2024-05-24
[9]
基片处理方法和基片处理装置
[P].
熊谷圭惠
论文数:
0
引用数:
0
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0
熊谷圭惠
;
久松亨
论文数:
0
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0
久松亨
;
本田昌伸
论文数:
0
引用数:
0
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0
本田昌伸
.
中国专利
:CN112802737A
,2021-05-14
[10]
基片处理装置和基片处理方法
[P].
松山健一郎
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
松山健一郎
.
日本专利
:CN111489986B
,2024-03-22
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