基片处理方法和基片处理装置

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专利类型
发明
申请号
CN201980055337.3
申请日
2019-08-09
公开(公告)号
CN112585730B
公开(公告)日
2024-04-19
发明(设计)人
松永浩一
申请人
东京毅力科创株式会社
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L21/31
IPC分类号
H01L21/312
代理机构
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
龙淳;徐飞跃
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
基片处理方法和基片处理装置 [P]. 
松永浩一 .
中国专利 :CN112585730A ,2021-03-30
[2]
基片处理装置和基片处理方法 [P]. 
立花康三 ;
山下海誓 .
日本专利 :CN120814031A ,2025-10-17
[3]
基片处理方法和基片处理装置 [P]. 
矢崎晃平 ;
土桥和也 ;
永原诚司 .
日本专利 :CN121165396A ,2025-12-19
[4]
基片处理装置和基片处理方法 [P]. 
藤田阳 .
日本专利 :CN116210074B ,2025-11-25
[5]
基片处理装置、基片处理系统和基片处理方法 [P]. 
小森荣一 .
中国专利 :CN111206235A ,2020-05-29
[6]
基片处理装置、基片处理方法和基片 [P]. 
小原隆宪 ;
毛利信彦 .
日本专利 :CN118016559A ,2024-05-10
[7]
基片处理装置、基片处理方法和基片处理程序 [P]. 
末政凉 ;
大村和久 .
日本专利 :CN119487617A ,2025-02-18
[8]
基片处理装置和基片处理方法 [P]. 
日高章一郎 ;
池田朋生 ;
碛本荣一 ;
岩永和也 ;
林圣人 .
日本专利 :CN110783226B ,2024-05-24
[9]
基片处理方法和基片处理装置 [P]. 
熊谷圭惠 ;
久松亨 ;
本田昌伸 .
中国专利 :CN112802737A ,2021-05-14
[10]
基片处理装置和基片处理方法 [P]. 
松山健一郎 .
日本专利 :CN111489986B ,2024-03-22