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半导体处理装置及方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202211026020.7
申请日：
2022-08-25
公开(公告)号：
CN117672902A
公开(公告)日：
2024-03-08
发明(设计)人：
胡玉
申请人：
拓荆科技股份有限公司
申请人地址：
110171 辽宁省沈阳市浑南区水家900号
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
B01D46/56
代理机构：
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人：
徐伟
法律状态：
公开
国省代码：
辽宁省
沈阳市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-03-08 | 公开 | 公开 |
| 2024-03-26 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20220825 |