半导体处理设备及半导体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910724428.3

申请日：

2019-08-07

公开(公告)号：

CN110491805A

公开(公告)日：

2019-11-22

发明(设计)人：

张丝柳顾立勋

申请人：

申请人地址：

430074 湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

代理机构：

上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294

代理人：

董琳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-11-22	公开	公开
2021-03-02	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L 21/67 申请公布日:20191122
2019-12-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20190807

共 50 条

[1]

半导体处理设备及半导体处理方法 [P].

胡耿涛 ;

林生财 .

中国专利 :CN119208210A ,2024-12-27

[2]

半导体处理设备及半导体处理方法 [P].

胡耿涛 ;

林生财 .

中国专利 :CN119208210B ,2025-10-17

[3]

半导体设备处理方法及半导体处理设备 [P].

付海涛 ;

庄宇峰 ;

吕术亮 ;

李远 ;

董维 ;

谢忠帅 ;

徐立 .

中国专利 :CN120231030A ,2025-07-01

[4]

半导体处理装置及半导体处理方法 [P].

吴凯文 ;

黄正义 ;

陈俊达 ;

谢锦升 .

中国专利 :CN113206027A ,2021-08-03

[5]

半导体处理设备 [P].

温子瑛 ;

王博洋 ;

孙富成 ;

王吉 ;

温欣 ;

樊裕斌 ;

沈爱华 ;

丁维维 .

中国专利 :CN216902814U ,2022-07-05

[6]

半导体处理设备 [P].

张龙 ;

黄有为 ;

陈鲁 .

中国专利 :CN213583703U ,2021-06-29

[7]

半导体处理设备 [P].

张龙 ;

黄有为 ;

陈鲁 ;

张嵩 .

中国专利 :CN213936127U ,2021-08-10

[8]

半导体处理设备 [P].

张舒扬 ;

J·L·温科 ;

A·金蒂 ;

E·J·希罗 ;

M·克瓦特拉 ;

D·南德瓦纳 ;

T·R·邓恩 ;

C·L·怀特 .

:CN221720921U ,2024-09-17

[9]

半导体处理设备 [P].

梁秉文 .

中国专利 :CN202678292U ,2013-01-16

[10]

半导体废气处理设备 [P].

张昱翀 ;

石天宇 .

中国专利 :CN221015344U ,2024-05-28

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