分子束外延设备及分子束外延设备的控制方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311262932.9

申请日：

2023-09-27

公开(公告)号：

CN117403323A

公开(公告)日：

2024-01-16

发明(设计)人：

彭长四周均铭杨晓楠倪健

申请人：

埃特曼（厦门）光电科技有限公司

申请人地址：

361000 福建省厦门市集美区后溪镇金岭北路159-7号102室

IPC主分类号：

C30B25/14

IPC分类号：

C30B25/16 C30B29/40

代理机构：

苏州锦尚知识产权代理事务所(普通合伙) 32502

代理人：

朱磊;李洋

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-02-02	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C30B 25/14申请日:20230927
2024-01-16	公开	公开

共 50 条

[1]

分子束外延设备的源炉及分子束外延设备 [P].

彭长四 ;

周均铭 ;

倪健 .

中国专利 :CN220788877U ,2024-04-16

[2]

分子束外延设备 [P].

楼厦 ;

薛聪 ;

倪健 .

中国专利 :CN220746138U ,2024-04-09

[3]

分子束外延设备的样品台及分子束外延设备 [P].

楼厦 ;

倪健 ;

赵金堂 .

中国专利 :CN120425453A ,2025-08-05

[4]

分子束外延设备的源炉及分子束外延设备 [P].

彭长四 ;

周均铭 ;

倪健 .

中国专利 :CN220867575U ,2024-04-30

[5]

分子束外延设备的样品台及分子束外延设备 [P].

楼厦 ;

倪健 ;

赵金堂 .

中国专利 :CN120425453B ,2025-12-26

[6]

隔离装置及分子束外延设备 [P].

楼厦 ;

薛聪 ;

倪健 .

中国专利 :CN220724410U ,2024-04-05

[7]

束流探测装置及分子束外延设备 [P].

楼厦 ;

王旭光 ;

董海云 ;

倪健 .

中国专利 :CN221039441U ,2024-05-28

[8]

分子束外延设备的原位掩膜架及分子束外延设备 [P].

崔凌霞 ;

李景雷 .

中国专利 :CN118563416A ,2024-08-30

[9]

分子束外延用源炉以及分子束外延设备 [P].

张亚宾 ;

袁敏 ;

王利 ;

魏伟 ;

凌小伦 ;

张珽 .

中国专利 :CN221854738U ,2024-10-18

[10]

分子束外延系统及分子束外延表面的温度控制方法 [P].

高达 ;

王经纬 ;

周朋 ;

刘铭 ;

宁提 ;

谭振 .

中国专利 :CN112160030A ,2021-01-01

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