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分子束外延设备的样品台及分子束外延设备

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510374100.9
申请日：
2025-03-27
公开(公告)号：
CN120425453A
公开(公告)日：
2025-08-05
发明(设计)人：
楼厦 倪健 赵金堂
申请人：
埃特曼（北京）半导体技术有限公司
申请人地址：
101300 北京市顺义区文良街15号院2号楼D1-D2区(科技创新产业功能区)
IPC主分类号：
C30B23/02
IPC分类号：
C30B23/06 C30B25/12 C30B25/16 C30B25/10 C23C14/50 C23C14/54 C23C16/458 C23C16/48
代理机构：
苏州锦尚知识产权代理事务所(普通合伙) 32502
代理人：
朱磊;李洋
法律状态：
授权
国省代码：
北京市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-12-26 授权 授权
2025-08-05 公开 公开
2025-08-22 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):C30B 23/02申请日:20250327
共 50 条
[1]
分子束外延设备的样品台及分子束外延设备 [P]. 
楼厦 ;
倪健 ;
赵金堂 .
中国专利 :CN120425453B ,2025-12-26
[2]
分子束外延设备的源炉及分子束外延设备 [P]. 
彭长四 ;
周均铭 ;
倪健 .
中国专利 :CN220867575U ,2024-04-30
[3]
分子束外延设备及分子束外延设备的控制方法 [P]. 
彭长四 ;
周均铭 ;
杨晓楠 ;
倪健 .
中国专利 :CN117403323A ,2024-01-16
[4]
分子束外延设备的源炉及分子束外延设备 [P]. 
彭长四 ;
周均铭 ;
倪健 .
中国专利 :CN220788877U ,2024-04-16
[5]
分子束外延设备 [P]. 
楼厦 ;
薛聪 ;
倪健 .
中国专利 :CN220746138U ,2024-04-09
[6]
分子束外延设备的原位掩膜架及分子束外延设备 [P]. 
崔凌霞 ;
李景雷 .
中国专利 :CN118563416A ,2024-08-30
[7]
分子束外延用源炉以及分子束外延设备 [P]. 
张亚宾 ;
袁敏 ;
王利 ;
魏伟 ;
凌小伦 ;
张珽 .
中国专利 :CN221854738U ,2024-10-18
[8]
分子束外延设备的外延生长室结构 [P]. 
梁枫 ;
张冬 ;
马志博 .
中国专利 :CN119433697A ,2025-02-14
[9]
分子束流限制装置及分子束外延设备 [P]. 
倪健 ;
吴亮亮 ;
薛聪 .
中国专利 :CN215560800U ,2022-01-18
[10]
一种激光加热样品台及分子束外延设备 [P]. 
艾金虎 .
中国专利 :CN221778026U ,2024-09-27
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