一种化学气相沉积设备及其控制系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311872072.0

申请日：

2023-12-29

公开(公告)号：

CN117758241A

公开(公告)日：

2024-03-26

发明(设计)人：

程金帅李宏利孙胜浩

申请人：

河南天璇半导体科技有限责任公司

申请人地址：

450000 河南省郑州市河南自贸试验区郑州片区（郑东）龙湖中环路与龙源西四街交叉口启迪郑东科技城产促中心2楼226号

IPC主分类号：

C23C16/511

IPC分类号：

C23C16/52

代理机构：

郑州睿信知识产权代理有限公司 41119

代理人：

王锋

法律状态：

公开

国省代码：

广东省汕头市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-03-26	公开	公开
2024-04-26	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/511申请日:20231229

共 50 条

[1]

一种化学气相沉积喷头及化学气相沉积设备 [P].

方鹏 .

中国专利 :CN223674737U ,2025-12-16

[2]

化学气相沉积设备的控制系统 [P].

张义明 ;

陈力兵 ;

祝龙飞 ;

房伟 .

中国专利 :CN103911602A ,2014-07-09

[3]

化学气相沉积设备的控制系统 [P].

张义明 ;

陈力兵 ;

祝龙飞 ;

房伟 .

中国专利 :CN203007418U ,2013-06-19

[4]

一种化学气相沉积设备 [P].

李涛 ;

王俊 ;

刘书凯 .

中国专利 :CN114574836A ,2022-06-03

[5]

一种化学气相沉积设备 [P].

崔名扬 ;

任丽 ;

贾莹莹 ;

付亮 .

中国专利 :CN223705816U ,2025-12-23

[6]

一种化学气相沉积设备 [P].

李涛 ;

王俊 ;

刘书凯 .

中国专利 :CN114574836B ,2025-03-28

[7]

一种化学气相沉积设备 [P].

陈飞 ;

张杰 ;

张奇 .

中国专利 :CN223646630U ,2025-12-09

[8]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[9]

一种用于化学气相沉积设备喷淋装置 [P].

黄波 ;

万意 ;

丁正和 ;

刘东来 ;

何军 ;

张建耀 .

中国专利 :CN221608191U ,2024-08-27

[10]

一种基于氨气的化学气相沉积设备 [P].

安宇宏 ;

张晓涛 ;

胡子雏 ;

张万奇 ;

王喜明 ;

钟源 ;

邵亚丽 ;

王博赟 ;

王晓 ;

李欣然 .

中国专利 :CN216765046U ,2022-06-17

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