高平整度端子接口真空溅射镀膜工艺

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311788585.3
申请日
2023-12-25
公开(公告)号
CN118086826A
公开(公告)日
2024-05-28
发明(设计)人
贾建国
申请人
昆山英利悦电子有限公司
申请人地址
215300 江苏省苏州市昆山市玉山镇山淞路297号8号房
IPC主分类号
C23C14/02
IPC分类号
C23C14/14 C23C14/34
代理机构
江苏久宣知识产权代理事务所(普通合伙) 32739
代理人
陈宁
法律状态
实质审查的生效
国省代码
江苏省 苏州市
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共 17 条
[1]
一种真空溅射镀膜及其工艺 [P]. 
李均平 ;
贾祥文 ;
韩阳 ;
张威 ;
邹健 .
中国专利 :CN111607773A ,2020-09-01
[2]
一种金属制品的真空溅射镀膜工艺 [P]. 
程淑清 .
中国专利 :CN109763104A ,2019-05-17
[3]
柔性卷绕镀膜中薄膜平整度在线控制装置 [P]. 
任丹 ;
张少波 ;
刘月豹 ;
王银泉 ;
孔德辉 .
中国专利 :CN204474748U ,2015-07-15
[4]
柔性卷绕镀膜中薄膜平整度在线控制装置 [P]. 
任丹 ;
张少波 ;
刘月豹 ;
王银泉 ;
孔德辉 .
中国专利 :CN104611678A ,2015-05-13
[5]
金属溅射镀膜及表面真空硬化保护层连续生产工艺 [P]. 
蔡玉真 .
中国专利 :CN109837502A ,2019-06-04
[6]
一种磁控溅射蒸发双系统卷绕真空镀膜机及其镀膜工艺 [P]. 
林卫良 .
中国专利 :CN111962037A ,2020-11-20
[7]
真空离子溅射镀膜在IML工艺中的应用方法 [P]. 
曾晓东 ;
刘静艳 ;
石云 ;
王树清 .
中国专利 :CN101698935B ,2010-04-28
[8]
一种在真空环境中进行离子溅射镀膜的工艺方法 [P]. 
高富堂 .
中国专利 :CN110670033A ,2020-01-10
[9]
一种能够保持真空度的溅射镀膜装置 [P]. 
陈斌 .
中国专利 :CN204874725U ,2015-12-16
[10]
一种能够保持真空度的溅射镀膜装置 [P]. 
唐贵民 ;
闫都伦 ;
王克斌 .
中国专利 :CN205529009U ,2016-08-31