一种非晶硅光波导的制作方法及非晶硅光波导

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专利类型
发明
申请号
CN202410179273.0
申请日
2024-02-18
公开(公告)号
CN117724207B
公开(公告)日
2024-04-30
发明(设计)人
杨荣 王庆 余明斌
申请人
上海铭锟半导体有限公司
申请人地址
200120 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区环湖西二路888号C楼
IPC主分类号
G02B6/13
IPC分类号
G02B6/136
代理机构
成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214
代理人
黎飞
法律状态
公开
国省代码
上海市
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共 50 条
[1]
一种非晶硅光波导的制作方法及非晶硅光波导 [P]. 
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