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一种半导体生产用化学研磨液冷却装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202410331633.4
申请日：
2024-03-22
公开(公告)号：
CN118031678A
公开(公告)日：
2024-05-14
发明(设计)人：
丁红伟
郭伟
骆晓庆
申请人：
上海亿鼎电子系统集成有限公司
申请人地址：
202150 上海市崇明区跃新路1688号9幢3032室
IPC主分类号：
F28D7/02
IPC分类号：
B24B37/34
F28F13/12
F28G9/00
F28F9/26
F25D31/00
代理机构：
上海正则创壹知识产权代理有限公司 31513
代理人：
李慰祖
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
上海市
市辖区
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-05-31 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):F28D 7/02申请日:20240322 |
| 2025-08-01 | 著录事项变更 | 著录事项变更IPC(主分类):F28D 7/02变更事项:申请人变更前:上海亿鼎电子系统集成有限公司变更后:上海亿鼎技术（集团）有限公司变更事项:国家或地区变更前:中国变更后:中国变更事项:地址变更前:上海市崇明区跃新路1688号9幢3032室变更后:201299 上海市崇明区跃新路1688号9幢3032室 |
| 2024-05-14 | 公开 | 公开 |