半导体晶圆的制造装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202310836231.5
申请日
2023-07-10
公开(公告)号
CN117410203A
公开(公告)日
2024-01-16
发明(设计)人
藤林裕明 森博隆 里村隆幸 高木茂行
申请人
株式会社电装 丰田自动车株式会社 未来瞻科技株式会社
申请人地址
日本爱知县
IPC主分类号
H01L21/67
IPC分类号
代理机构
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人
朴勇
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体晶圆的制造装置 [P]. 
藤林裕明 ;
森博隆 ;
里村隆幸 ;
高木茂行 .
日本专利 :CN117403320A ,2024-01-16
[2]
半导体晶圆制造装置 [P]. 
赵宏宇 ;
裴立坤 .
中国专利 :CN202796880U ,2013-03-13
[3]
半导体晶圆制造装置 [P]. 
赵宏宇 ;
张晓红 ;
裴立坤 ;
张豹 ;
王锐廷 .
中国专利 :CN202423239U ,2012-09-05
[4]
半导体晶圆制造装置 [P]. 
赵宏宇 ;
裴立坤 .
中国专利 :CN102820243B ,2012-12-12
[5]
半导体晶圆制造装置 [P]. 
赵宏宇 ;
张晓红 ;
裴立坤 ;
张豹 ;
王锐廷 .
中国专利 :CN103177985A ,2013-06-26
[6]
半导体晶圆的制造方法及半导体晶圆 [P]. 
铃木温 .
日本专利 :CN119278499A ,2025-01-07
[7]
半导体晶圆和半导体晶圆的制造方法 [P]. 
园田真吾 ;
西弦正 ;
藤原拓哉 .
日本专利 :CN121123119A ,2025-12-12
[8]
半导体晶圆制造系统及制造半导体晶圆的方法 [P]. 
陈哲夫 ;
洪伟华 .
中国专利 :CN113555310A ,2021-10-26
[9]
半导体晶圆制造系统及制造半导体晶圆的方法 [P]. 
陈哲夫 ;
洪伟华 .
中国专利 :CN113555310B ,2025-01-07
[10]
半导体晶圆的清洗方法、半导体晶圆的制造方法及半导体晶圆 [P]. 
柳井凉一 .
日本专利 :CN120731491A ,2025-09-30