一种4H-SiC及其超快速的制备方法和应用

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410272671.7
申请日
2024-03-11
公开(公告)号
CN118146001A
公开(公告)日
2024-06-07
发明(设计)人
左飞 巫润东 邓亚宁 詹林翰 林华泰
申请人
广东工业大学
申请人地址
510090 广东省广州市越秀区东风东路729号
IPC主分类号
C04B35/565
IPC分类号
C04B35/622 C04B35/64
代理机构
北京精金石知识产权代理有限公司 11470
代理人
尉月丽
法律状态
公开
国省代码
广东省 广州市
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共 50 条
[1]
一种4H-SiC及其超快速的制备方法和应用 [P]. 
左飞 ;
巫润东 ;
邓亚宁 ;
詹林翰 ;
林华泰 .
中国专利 :CN118146001B ,2025-11-07
[2]
4H-SiC衬底上同质快速外延生长4H-SiC外延层的方法 [P]. 
刘斌 ;
孙国胜 ;
刘兴昉 ;
董林 ;
郑柳 ;
闫果果 ;
刘胜北 ;
张峰 ;
赵万顺 ;
王雷 ;
曾一平 .
中国专利 :CN103820768A ,2014-05-28
[3]
基于4H-SiC的偏振复用超透镜及其设计方法 [P]. 
王文艳 ;
吴爽 ;
郭思彤 ;
崔艳霞 ;
李国辉 ;
冀婷 .
中国专利 :CN116736416B ,2025-10-03
[4]
单晶4H-SiC衬底及其制造方法 [P]. 
大野彰仁 ;
川津善平 ;
富田信之 ;
田中贵规 ;
三谷阳一郎 ;
浜野健一 .
中国专利 :CN104078331A ,2014-10-01
[5]
4H-SiC在制备高压压砧中的应用 [P]. 
王霖 ;
张金波 .
中国专利 :CN108760633A ,2018-11-06
[6]
4H-SiC雪崩光电探测器及其制备方法 [P]. 
吴正云 ;
朱会丽 ;
陈厦平 .
中国专利 :CN100463232C ,2007-06-27
[7]
一种4H-SiC基超结功率MOSFET器件 [P]. 
谢速 .
中国专利 :CN217788402U ,2022-11-11
[8]
一种4H-SiC基超结功率MOSFET结构 [P]. 
谢速 .
中国专利 :CN217788400U ,2022-11-11
[9]
一种透明4H-SiC纳米孔阵列的制备方法 [P]. 
杨为佑 ;
赵连富 ;
陈善亮 ;
史新俊 .
中国专利 :CN108251888B ,2018-07-06
[10]
一种4H-SiC COMS紫外反相器及其制备方法 [P]. 
杜丰羽 ;
韩超 ;
周瑜 ;
袁昊 .
中国专利 :CN117334766A ,2024-01-02