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半导体结构及其形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202211459438.7
申请日
:
2022-11-21
公开(公告)号
:
CN118102707A
公开(公告)日
:
2024-05-28
发明(设计)人
:
冯道欢
窦涛
申请人
:
长鑫存储技术有限公司
申请人地址
:
230601 安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号
IPC主分类号
:
H10B12/00
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
公开
国省代码
:
安徽省 宣城市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-05-28
公开
公开
2024-06-14
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H10B 12/00申请日:20221121
共 50 条
[1]
半导体结构及其形成方法
[P].
陈彦羽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈彦羽
;
程仲良
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
程仲良
.
中国专利
:CN113314611B
,2025-03-04
[2]
半导体结构及其形成方法
[P].
呼翔
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
呼翔
.
中国专利
:CN114068497A
,2022-02-18
[3]
半导体结构及其形成方法
[P].
李勇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李勇
.
中国专利
:CN106449404A
,2017-02-22
[4]
半导体结构及其形成方法
[P].
陈彦羽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈彦羽
;
程仲良
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
程仲良
.
中国专利
:CN113314611A
,2021-08-27
[5]
半导体结构及其形成方法
[P].
罗浩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
罗浩
;
陈勇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
陈勇
;
金海波
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
金海波
.
中国专利
:CN118630034A
,2024-09-10
[6]
半导体结构及其形成方法
[P].
江宏礼
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
江宏礼
;
李宗恩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李宗恩
;
王哲夫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
王哲夫
;
郑兆钦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
郑兆钦
;
拉杜·安娜
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
拉杜·安娜
;
庄正吉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
庄正吉
;
张智胜
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张智胜
;
蔡庆威
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
蔡庆威
.
中国专利
:CN119230596A
,2024-12-31
[7]
半导体结构及其形成方法
[P].
黄猛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
长鑫科技集团股份有限公司
长鑫科技集团股份有限公司
黄猛
.
中国专利
:CN120321945A
,2025-07-15
[8]
半导体结构及其形成方法
[P].
王楠
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
王楠
.
中国专利
:CN114078701B
,2024-05-17
[9]
半导体结构及其形成方法
[P].
王楠
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王楠
.
中国专利
:CN114078701A
,2022-02-22
[10]
半导体结构及其形成方法
[P].
J·R·霍尔特
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
J·R·霍尔特
;
O·C·奥扬
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
O·C·奥扬
.
中国专利
:CN100461430C
,2006-09-27
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