基于实时制造数据的半导体晶圆动态调度方法及设备

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410145665.5
申请日
2024-02-02
公开(公告)号
CN117709683A
公开(公告)日
2024-03-15
发明(设计)人
谢箭 龚雁鹏 陈祥一 郭昱
申请人
合肥喆塔科技有限公司
申请人地址
230000 安徽省合肥市中国(安徽)自由贸易试验区合肥片区高新区创新大道2800号创新产业园二期F4#601
IPC主分类号
G06Q10/0631
IPC分类号
G06Q10/0633 G06Q50/04 G06F18/232
代理机构
兴东知识产权代理有限公司 34148
代理人
苗娟
法律状态
实质审查的生效
国省代码
江苏省 常州市
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共 50 条
[1]
半导体晶圆的制造方法及半导体晶圆 [P]. 
铃木温 .
日本专利 :CN119278499A ,2025-01-07
[2]
半导体晶圆的清洗方法、半导体晶圆的制造方法及半导体晶圆 [P]. 
柳井凉一 .
日本专利 :CN120731491A ,2025-09-30
[3]
半导体晶圆制造系统及制造半导体晶圆的方法 [P]. 
陈哲夫 ;
洪伟华 .
中国专利 :CN113555310A ,2021-10-26
[4]
半导体晶圆制造系统及制造半导体晶圆的方法 [P]. 
陈哲夫 ;
洪伟华 .
中国专利 :CN113555310B ,2025-01-07
[5]
半导体芯片、半导体晶圆及半导体晶圆的制造方法 [P]. 
张乃千 ;
潘盼 .
中国专利 :CN107980171B ,2018-05-01
[6]
半导体芯片、半导体晶圆及半导体晶圆的制造方法 [P]. 
张乃千 ;
潘盼 .
中国专利 :CN107068611A ,2017-08-18
[7]
半导体晶圆的制造方法及半导体制造设备 [P]. 
罗谚展 ;
曾银彬 ;
刘定一 ;
许凯翔 .
中国专利 :CN113628988A ,2021-11-09
[8]
半导体晶圆的制造方法及半导体制造设备 [P]. 
罗谚展 ;
曾银彬 ;
刘定一 ;
许凯翔 .
中国专利 :CN113628988B ,2024-08-09
[9]
半导体晶圆的清洗方法及半导体晶圆的制造方法 [P]. 
芦马溪 ;
大久保知洋 ;
久保田真美 .
日本专利 :CN118435324A ,2024-08-02
[10]
半导体晶圆的评价方法及半导体晶圆的制造方法 [P]. 
长泽崇裕 ;
桥本靖行 ;
加藤裕孝 .
中国专利 :CN111587476A ,2020-08-25