氧化硅薄膜的制备方法及半导体结构

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专利类型
发明
申请号
CN202410004403.7
申请日
2024-01-03
公开(公告)号
CN117524851B
公开(公告)日
2024-05-14
发明(设计)人
余鹏祥
申请人
长鑫新桥存储技术有限公司
申请人地址
230601 安徽省合肥市经济技术开发区新淮大道2788号
IPC主分类号
H01L21/02
IPC分类号
H10B80/00 C01B33/113
代理机构
华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人
成亚婷
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
氧化硅薄膜的制备方法及半导体结构 [P]. 
余鹏祥 .
中国专利 :CN117524851A ,2024-02-06
[2]
半导体结构制备方法及半导体结构 [P]. 
白龙刚 ;
于良成 ;
张松涛 ;
苏朋 ;
杨国文 .
中国专利 :CN112509917A ,2021-03-16
[3]
一种氧化硅基半导体纳米薄膜的制备方法 [P]. 
祖小涛 ;
李志杰 .
中国专利 :CN101973513A ,2011-02-16
[4]
半导体薄膜制造机台及半导体薄膜制备方法 [P]. 
肖恩才 ;
魏晓平 .
中国专利 :CN120683455A ,2025-09-23
[5]
半导体结构的制备方法及半导体结构 [P]. 
余维嘉 .
中国专利 :CN115385294A ,2022-11-25
[6]
半导体结构的制备方法及半导体结构 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN108063141B ,2018-05-22
[7]
半导体结构的制备方法及半导体结构 [P]. 
余维嘉 .
中国专利 :CN115385294B ,2024-12-17
[8]
半导体结构的制备方法及半导体结构 [P]. 
李蒙 .
中国专利 :CN115799028B ,2025-12-05
[9]
半导体结构及半导体结构的制备方法 [P]. 
王振翰 .
中国专利 :CN118471950A ,2024-08-09
[10]
半导体结构、半导体装置及半导体结构的制备方法 [P]. 
方羊 ;
卢志远 ;
樊园 ;
周浩磊 ;
全昌镐 .
中国专利 :CN120933271A ,2025-11-11