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基板清洗装置及基板清洗方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202311190319.0
申请日：
2023-09-15
公开(公告)号：
CN117747489A
公开(公告)日：
2024-03-22
发明(设计)人：
中村一树
冈田吉文
冲田展彬
申请人：
株式会社斯库林集团
申请人地址：
日本京都府京都市上京区堀川通寺之内上4丁目天神北町1番地之1
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
H01L21/683
H01L21/687
H01L21/02
代理机构：
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人：
周慧;刘芳
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-04-09 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20230915 |
| 2024-03-22 | 公开 | 公开 |