光吸收剂、组合物、光学构件及光吸收剂的制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311202485.8
申请日
2023-09-18
公开(公告)号
CN117720770A
公开(公告)日
2024-03-19
发明(设计)人
鹫尾圭亮 山肋凉
申请人
株式会社日本制钢所
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
C08K5/523
IPC分类号
C07F9/09 G02B1/04 C08K5/5317 C08K5/521 C08K5/5313 C08K5/098 C08L79/08 C08L1/02
代理机构
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
马立荣;郭煜
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
光吸收剂及含有光吸收剂的有机抗反射涂层组合物 [P]. 
朴柱炫 ;
李俊昊 .
中国专利 :CN101556433B ,2009-10-14
[2]
紫外光吸收剂 [P]. 
R·瑞迪 ;
C·S·布朗 ;
A·格拉布 ;
何猛 ;
A·库玛 ;
徐瑞松 .
中国专利 :CN113122269A ,2021-07-16
[3]
紫外光吸收剂 [P]. 
B·温克勒 ;
D·坎佩尔 .
中国专利 :CN118742541A ,2024-10-01
[4]
紫外光吸收剂 [P]. 
R·瑞迪 ;
C·S·布朗 ;
A·格拉布 ;
何猛 ;
A·库玛 ;
徐瑞松 .
中国专利 :CN107109227A ,2017-08-29
[5]
紫外光吸收剂 [P]. 
R·瑞迪 ;
C·S·布朗 ;
A·格拉布 ;
何猛 ;
A·库玛 ;
徐瑞松 .
美国专利 :CN113122269B ,2024-05-28
[6]
光吸收剂和包括该光吸收剂的有机电致发光器件 [P]. 
韩相铉 ;
尹元珉 ;
金锺佑 ;
白长烈 ;
郑恩在 ;
金嗂翰 ;
金利受 ;
金荣国 ;
黄晳焕 .
中国专利 :CN109721482A ,2019-05-07
[7]
用于光吸收剂的化合物 [P]. 
郑埈皓 ;
李承哲 ;
金羲卿 .
韩国专利 :CN120157599A ,2025-06-17
[8]
紫外光吸收剂稳定剂组合 [P]. 
R·威尔克 .
中国专利 :CN101068869B ,2007-11-07
[9]
光吸收剂和包括该光吸收剂的有机电致发光装置 [P]. 
韩相铉 ;
金钟佑 ;
郑恩在 ;
金荣国 ;
黄晳焕 .
中国专利 :CN109305950A ,2019-02-05
[10]
化合物、光吸收剂、组合物及光学滤波器 [P]. 
金原有希子 ;
中屋敷哲千 .
日本专利 :CN111868027B ,2024-10-29