用于光吸收剂的化合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411596066.1

申请日：

2024-11-11

公开(公告)号：

CN120157599A

公开(公告)日：

2025-06-17

发明(设计)人：

郑埈皓李承哲金羲卿

申请人：

株式会社LMS

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

C07C251/20

IPC分类号：

C09K3/00 G02B5/22 G02B5/20 C09D7/63 G01J5/00

代理机构：

北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 11641

代理人：

刘宏岳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-17	公开	公开
2025-07-04	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C07C 251/20申请日:20241111

共 50 条

[1]

光吸收剂、组合物、光学构件及光吸收剂的制造方法 [P].

鹫尾圭亮 ;

山肋凉 .

日本专利 :CN117720770A ,2024-03-19

[2]

化合物、光吸收剂、组合物及光学滤波器 [P].

金原有希子 ;

中屋敷哲千 .

日本专利 :CN111868027B ,2024-10-29

[3]

化合物、光吸收剂、组合物及光学滤波器 [P].

金原有希子 ;

中屋敷哲千 .

中国专利 :CN111868027A ,2020-10-30

[4]

光吸收剂及含有光吸收剂的有机抗反射涂层组合物 [P].

朴柱炫 ;

李俊昊 .

中国专利 :CN101556433B ,2009-10-14

[5]

苯并三唑系化合物、光吸收剂及树脂组合物 [P].

川口胜 ;

伊藤伸介 ;

户谷由之 ;

松井勇辅 ;

熊谷洋二郎 ;

垣尾大辅 ;

泽野文二 ;

成濑洋 ;

山口亮二 .

日本专利 :CN117466830A ,2024-01-30

[6]

苯并三唑系化合物、光吸收剂及树脂组合物 [P].

川口胜 ;

伊藤伸介 ;

户谷由之 ;

松井勇辅 ;

熊谷洋二郎 ;

垣尾大辅 ;

泽野文二 ;

成濑洋 ;

山口亮二 .

日本专利 :CN114423742B ,2024-05-28

[7]

苯并三唑系化合物、光吸收剂及树脂组合物 [P].

川口胜 ;

伊藤伸介 ;

户谷由之 ;

松井勇辅 ;

熊谷洋二郎 ;

垣尾大辅 ;

泽野文二 ;

成濑洋 ;

山口亮二 .

中国专利 :CN114423742A ,2022-04-29

[8]

离子化合物、吸收剂、及吸收装置 [P].

李伟智 ;

刘瑷瑜 ;

陈志豪 ;

彭及青 ;

陈钧振 .

中国专利 :CN120118027A ,2025-06-10

[9]

离子化合物、吸收剂、及吸收装置 [P].

李伟智 ;

陈奕翔 ;

陈志豪 ;

刘瑷瑜 ;

彭及青 ;

陈钧振 .

中国专利 :CN117777148A ,2024-03-29

[10]

紫外光吸收剂 [P].

R·瑞迪 ;

C·S·布朗 ;

A·格拉布 ;

何猛 ;

A·库玛 ;

徐瑞松 .

中国专利 :CN113122269A ,2021-07-16

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