IPC分类号:
C07D209/24
G02B5/22
共 50 条
[3]
光吸收剂、组合物、光学构件及光吸收剂的制造方法
[P].
鹫尾圭亮
论文数: 0 引用数: 0
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机构:
株式会社日本制钢所
株式会社日本制钢所
鹫尾圭亮
;
山肋凉
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机构:
株式会社日本制钢所
株式会社日本制钢所
山肋凉
.
日本专利 :CN117720770A ,2024-03-19 [4]
用于光吸收剂的化合物
[P].
郑埈皓
论文数: 0 引用数: 0
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机构:
株式会社LMS
株式会社LMS
郑埈皓
;
李承哲
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机构:
株式会社LMS
株式会社LMS
李承哲
;
金羲卿
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机构:
株式会社LMS
株式会社LMS
金羲卿
.
韩国专利 :CN120157599A ,2025-06-17 [5]
酞菁化合物、树脂组合物、光学滤波器及固体撮像器件
[P].
青木拓磨
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机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
青木拓磨
;
滨木裕史
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机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
滨木裕史
;
黑木贵裕
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机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
黑木贵裕
;
赤坂哲郎
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机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
赤坂哲郎
.
日本专利 :CN120554365A ,2025-08-29 [7]
苯并三唑系化合物、光吸收剂及树脂组合物
[P].
川口胜
论文数: 0 引用数: 0
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
川口胜
;
伊藤伸介
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
伊藤伸介
;
户谷由之
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
户谷由之
;
松井勇辅
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
松井勇辅
;
熊谷洋二郎
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
熊谷洋二郎
;
垣尾大辅
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
垣尾大辅
;
泽野文二
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
泽野文二
;
成濑洋
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
成濑洋
;
山口亮二
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
山口亮二
.
日本专利 :CN117466830A ,2024-01-30 [8]
苯并三唑系化合物、光吸收剂及树脂组合物
[P].
川口胜
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
川口胜
;
伊藤伸介
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
伊藤伸介
;
户谷由之
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
户谷由之
;
松井勇辅
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
松井勇辅
;
熊谷洋二郎
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
熊谷洋二郎
;
垣尾大辅
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
垣尾大辅
;
泽野文二
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
泽野文二
;
成濑洋
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
成濑洋
;
山口亮二
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
山口亮二
.
日本专利 :CN114423742B ,2024-05-28