ルテニウム錯体の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20170543074

申请日：

2016-09-09

公开(公告)号：

JPWO2017056916A1

公开(公告)日：

2018-07-19

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07F19/00

IPC分类号：

C07F9/50 C07F15/00

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共 50 条

[1]

有機ルテニウム錯体及び当該ルテニウム錯体を用いたルテニウム薄膜の製造法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008013244A1 ,2009-12-17

[2]

ルテニウム錯体の製造方法、並びにルテニウム錯体及びこれを用いたジアミンの製造方法[ja] [P].

MORITA KENTA ;

URAYAMA TEPPEI .

日本专利 :JP2023177660A ,2023-12-14

[3]

ルテニウム含有薄膜の製造方法[ja] [P].

YAMAMOTO ARINORI ;

HAYAKAWA TEPPEI ;

EBIHARA RYOSUKE .

日本专利 :JP2024002081A ,2024-01-11

[4]

ルテニウム錯体及びアルコール化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002062809A1 ,2004-06-10

[5]

ルテニウム錯体及びその製造方法並びにその用途[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015163440A1 ,2017-04-20

[6]

ルテニウム酸化物およびルテニウム酸化物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017138643A1 ,2018-12-06

[7]

スルホニウム化合物の製造方法、並びにスルホニウムボレート錯体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP5727316B2 ,2015-06-03

[8]

アンモニアの分解方法及びルテニウム錯体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019168094A1 ,2021-04-15

[9]

パラジウム錯体及びその製造方法、ビニルエーテル化合物の製造方法、並びにパラジウム錯体の回収方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013005621A1 ,2015-02-23

[10]

アルミニウム箔の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012063920A1 ,2014-05-12

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