有機ルテニウム錯体及び当該ルテニウム錯体を用いたルテニウム薄膜の製造法[ja]

被引：0

申请号：

JP20080526820

申请日：

2007-07-26

公开(公告)号：

JPWO2008013244A1

公开(公告)日：

2009-12-17

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07C49/92

IPC分类号：

C23C16/18 H01L21/28 H01L21/285

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共 50 条

[1]

ルテニウム錯体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017056916A1 ,2018-07-19

[2]

ルテニウム錯体を用いた還元方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018135506A1 ,2019-11-07

[3]

ルテニウム錯体の製造方法、並びにルテニウム錯体及びこれを用いたジアミンの製造方法[ja] [P].

MORITA KENTA ;

URAYAMA TEPPEI .

日本专利 :JP2023177660A ,2023-12-14

[4]

化学蒸着法によるルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜の製造方法及びルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜[ja] [P].

KIM SOO-HYUN ;

KOTSUGI YOHEI .

日本专利 :JP2023178560A ,2023-12-18

[5]

アンモニアの分解方法及びルテニウム錯体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019168094A1 ,2021-04-15

[6]

ルテニウム酸化物およびルテニウム酸化物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017138643A1 ,2018-12-06

[7]

ルテニウム含有薄膜の製造方法[ja] [P].

YAMAMOTO ARINORI ;

HAYAKAWA TEPPEI ;

EBIHARA RYOSUKE .

日本专利 :JP2024002081A ,2024-01-11

[8]

ルテニウム錯体及びアルコール化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002062809A1 ,2004-06-10

[9]

ルテニウムまたはオスミウムベースの錯体触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2016527194A ,2016-09-08

[10]

有機ルテニウム化合物を含む化学蒸着用原料及びルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜の化学蒸着法[ja] [P].

日本专利 :JP7075518B1 ,2022-05-25

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