化学蒸着法によるルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜の製造方法及びルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜[ja]

被引：0

申请号：

JP20220091312

申请日：

2022-06-06

公开(公告)号：

JP2023178560A

公开(公告)日：

2023-12-18

发明(设计)人：

KIM SOO-HYUN KOTSUGI YOHEI

申请人：

IND ACADEMIC COOPERATION FOUNDATION YEUNGNAM UNIV TANAKA KIKINZOKU KOGYO KK

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C16/18

IPC分类号：

H01L21/285

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

有機ルテニウム化合物を含む化学蒸着用原料及びルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜の化学蒸着法[ja] [P].

日本专利 :JP7075518B1 ,2022-05-25

[2]

ルテニウム又はルテニウム化合物の回収方法[ja] [P].

日本专利 :JP5853963B2 ,2016-02-09

[3]

ルテニウム又はルテニウム化合物の回収方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012111542A1 ,2014-07-07

[4]

ルテニウム含有薄膜の製造方法[ja] [P].

YAMAMOTO ARINORI ;

HAYAKAWA TEPPEI ;

EBIHARA RYOSUKE .

日本专利 :JP2024002081A ,2024-01-11

[5]

ルテニウム化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6429352B1 ,2018-11-28

[6]

ルテニウム化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6509128B2 ,2019-05-08

[7]

ルテニウム化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015093177A1 ,2017-03-16

[8]

ルテニウム化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019097768A1 ,2019-11-21

[9]

ルテニウム化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7565270B2 ,2024-10-10

[10]

ルテニウム酸化物およびルテニウム酸化物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017138643A1 ,2018-12-06

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