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レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、及び電子デバイスの製造方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20090503878
申请日：
2007-09-28
公开(公告)号：
JPWO2008111251A1
公开(公告)日：
2010-06-24
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F7/039
IPC分类号：
C08F220/10 C08G77/14 G03F7/004 G03F7/075 G03F7/38 H01L21/027
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
レジスト組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019216118A1 ,2021-05-20
[2]
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P]. 
ADACHI YUKAKO ;
TAKAHASHI RINA ;
ICHIKAWA KOJI .
日本专利 :JP2025097300A ,2025-06-30
[3]
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022161854A ,2022-10-21
[4]
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P]. 
NOZU SHUNTA ;
TERAHIGASHI SHOHEI ;
ICHIKAWA KOJI .
日本专利 :JP2025078084A ,2025-05-19
[5]
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022173127A ,2022-11-17
[6]
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022095647A ,2022-06-28
[7]
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P]. 
MASUYAMA TATSURO ;
YAMAGUCHI NORIFUMI ;
ICHIKAWA KOJI .
日本专利 :JP2022070893A ,2022-05-13
[8]
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025134756A ,2025-09-17
[9]
パターン形成方法、レジストパターン、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016017232A1 ,2017-06-01
[10]
パターン形成方法、レジストパターン、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016136354A1 ,2017-08-03
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