パターン形成方法、レジストパターン、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス[ja]

被引：0

申请号：

JP20160538176

申请日：

2015-05-13

公开(公告)号：

JPWO2016017232A1

公开(公告)日：

2017-06-01

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/32

IPC分类号：

C08F212/04 C08F220/26 G03F7/038 G03F7/039 G03F7/20

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共 50 条

[1]

パターン形成方法、レジストパターン、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016136354A1 ,2017-08-03

[2]

パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016035497A1 ,2017-04-27

[3]

パターン形成方法、レジストパターン、及び、電子デバイスの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016052365A1 ,2017-07-20

[4]

パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017029891A1 ,2018-04-12

[5]

パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017002737A1 ,2018-04-12

[6]

パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016052178A1 ,2017-05-25

[7]

ネガレジストパターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018008300A1 ,2019-05-16

[8]

レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、及び電子デバイスの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008111251A1 ,2010-06-24

[9]

レジスト組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019216118A1 ,2021-05-20

[10]

有機電子デバイス、有機薄膜トランジスタ、電子ペーパー、ディスプレイデバイス[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016052170A1 ,2017-05-25

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