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レジスト組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20200518211
申请日：
2019-04-12
公开(公告)号：
JPWO2019216118A1
公开(公告)日：
2021-05-20
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F7/038
IPC分类号：
C08F220/26 G03F7/039 G03F7/20
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、及び電子デバイスの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008111251A1 ,2010-06-24
[2]
パターン形成方法、レジスト組成物、電子デバイスの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019044469A1 ,2020-10-08
[3]
パターン形成方法、レジストパターン、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016136354A1 ,2017-08-03
[4]
レジスト組成物精製品の製造方法、レジストパターン形成方法、及びレジスト組成物精製品[ja] [P]. 
AKIYAMA SATOSHI ;
NOGUCHI TAKUYA ;
NODA KUNIHIRO .
日本专利 :JP2024120591A ,2024-09-05
[5]
レジスト基材、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016158458A1 ,2017-04-27
[6]
レジスト材料、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015170734A1 ,2017-04-20
[7]
レジスト材料、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5861955B1 ,2016-02-16
[8]
パターン形成方法、レジストパターン、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016017232A1 ,2017-06-01
[9]
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025177899A ,2025-12-05
[10]
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7058711B1 ,2022-04-22
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