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プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20120500485
申请日
:
2011-01-26
公开(公告)号
:
JPWO2011102083A1
公开(公告)日
:
2013-06-17
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/3065
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[41]
プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018074322A1
,2019-08-08
[42]
プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の運転方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6935599B1
,2021-09-15
[43]
プラズマ処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022179495A
,2022-12-02
[44]
プラズマ処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2021124470A1
,2021-12-23
[45]
プラズマ処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020161919A1
,2021-02-18
[46]
プラズマ処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5874853B1
,2016-03-02
[47]
プラズマ処理装置[ja]
[P].
YAGUCHI TETSUMA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
YAGUCHI TETSUMA
.
日本专利
:JP2024115405A
,2024-08-26
[48]
プラズマ処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010079756A1
,2012-06-21
[49]
プラズマ処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2022105037A
,2022-07-12
[50]
プラズマ処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6013666B1
,2016-10-25
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