プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja]

被引:0
申请号
JP20120500485
申请日
2011-01-26
公开(公告)号
JPWO2011102083A1
公开(公告)日
2013-06-17
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/3065
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[41]
[43]
プラズマ処理方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022179495A ,2022-12-02
[44]
プラズマ処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2021124470A1 ,2021-12-23
[45]
プラズマ処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020161919A1 ,2021-02-18
[46]
プラズマ処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5874853B1 ,2016-03-02
[47]
プラズマ処理装置[ja] [P]. 
YAGUCHI TETSUMA .
日本专利 :JP2024115405A ,2024-08-26
[48]
プラズマ処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010079756A1 ,2012-06-21
[49]
プラズマ処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022105037A ,2022-07-12
[50]
プラズマ処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6013666B1 ,2016-10-25