プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20120500485

申请日：

2011-01-26

公开(公告)号：

JPWO2011102083A1

公开(公告)日：

2013-06-17

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/3065

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共 50 条

[21]

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja] [P].

OIKAWA SHO ;

ISHIKAWA MANABU ;

KUMAGAI YUKI ;

SATO YUKI ;

IMAHASHI TAKUMI ;

KURODA AKIRA .

日本专利 :JP2025102909A ,2025-07-08

[22]

プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006049076A1 ,2008-05-29

[23]

プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002059954A1 ,2004-10-14

[24]

プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013124906A1 ,2015-05-21

[25]

プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013124898A1 ,2015-05-21

[26]

プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013121467A1 ,2015-05-11

[27]

プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025172109A ,2025-11-20

[28]

プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020256094A1 ,2021-10-21

[29]

プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法[ja] [P].

TAKEDA NAOAKI .

日本专利 :JP2024007813A ,2024-01-19

[30]

プラズマ処理装置、およびプラズマ処理方法[ja] [P].

ICHIKAWA TAKAHIRO ;

HIRONAKA YOSHIYUKI ;

OGOSHI YASUO .

日本专利 :JP2022177082A ,2022-11-30

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