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半導体装置、および半導体装置の作製方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200552181
申请日
:
2019-10-17
公开(公告)号
:
JPWO2020084406A1
公开(公告)日
:
2021-10-28
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/336
IPC分类号
:
H10B99/00
H01L29/786
H10B12/00
H10B41/70
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[11]
半導体装置、および半導体装置の作製方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019003047A1
,2020-07-30
[12]
半導体装置、および半導体装置の作製方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020084415A1
,2021-10-28
[13]
半導体装置、および半導体装置の作製方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019048968A1
,2020-11-12
[14]
半導体装置、および半導体装置の作製方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019175708A1
,2021-03-25
[15]
半導体装置、および半導体装置の作製方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020074999A1
,2021-10-14
[16]
半導体装置、および半導体装置の作製方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019130162A1
,2021-01-14
[17]
半導体装置、および半導体装置の作製方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019025893A1
,2020-07-16
[18]
半導体装置、および半導体装置の作製方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019048987A1
,2020-10-15
[19]
半導体装置、および半導体装置の作製方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019048984A1
,2020-11-05
[20]
半導体装置、および半導体装置の作製方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018178806A1
,2020-01-30
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