ガスクラスターイオンビームによる固体表面の平坦化方法および固体表面平坦化装置[ja]

被引:0
申请号
JP20080542131
申请日
2007-10-30
公开(公告)号
JPWO2008053879A1
公开(公告)日
2010-02-25
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/302
IPC分类号
H01J27/02 H01J37/08
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 38 条
[4]
固体表面の平坦化方法及びその装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2005031838A1 ,2006-12-07
[5]
固体表面の平坦化方法及びその装置[ja] [P]. 
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[6]
固体表面処理装置および方法[ja] [P]. 
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[7]
固体表面のスパイダーシルクコーティング[ja] [P]. 
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[8]
固体表面のスパイダーシルクコーティング[ja] [P]. 
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[9]
固体表面製品およびその製造方法[ja] [P]. 
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[10]
固体表面製品およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6847961B2 ,2021-03-24