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ガスクラスターイオンビームによる固体表面の平坦化方法および固体表面平坦化装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20080542131
申请日
:
2007-10-30
公开(公告)号
:
JPWO2008053879A1
公开(公告)日
:
2010-02-25
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/302
IPC分类号
:
H01J27/02
H01J37/08
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 38 条
[1]
ガスクラスターイオンビームによる固体表面の平坦化方法および固体表面平坦化装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008054014A1
,2010-02-25
[2]
ガスクラスターイオンビームによる固体表面の平坦化方法、固体表面平坦化装置および生産方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5667586B2
,2015-02-12
[3]
ガスクラスターイオンビームによる固体表面の加工方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008054013A1
,2010-02-25
[4]
固体表面の平坦化方法及びその装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005031838A1
,2006-12-07
[5]
固体表面の平坦化方法及びその装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006123739A1
,2008-12-25
[6]
固体表面処理装置および方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7609499B1
,2025-01-07
[7]
固体表面のスパイダーシルクコーティング[ja]
[P].
日本专利
:JP2019518521A
,2019-07-04
[8]
固体表面のスパイダーシルクコーティング[ja]
[P].
日本专利
:JP7168454B2
,2022-11-09
[9]
固体表面製品およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018529833A
,2018-10-11
[10]
固体表面製品およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6847961B2
,2021-03-24
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