酸化物薄膜の形成方法および装置[ja]

被引:0
申请号
JP20150553507
申请日
2014-12-11
公开(公告)号
JPWO2015093389A1
公开(公告)日
2017-03-16
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/316
IPC分类号
C23C16/40 H01L21/31
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
酸化物薄膜の形成方法および装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6484892B2 ,2019-03-20
[2]
酸化物薄膜形成方法及び酸化物薄膜形成装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6813824B2 ,2021-01-13
[3]
酸化物薄膜の形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6005288B2 ,2016-10-12
[4]
酸化物薄膜の形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015011855A1 ,2017-03-02
[6]
[7]
CVD装置およびその薄膜形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007074545A1 ,2009-06-04
[8]
金属酸化物薄膜の製造方法および装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7556540B2 ,2024-09-26
[9]
金属酸化物の形成方法[ja] [P]. 
YAMAZAKI SHUNPEI ;
NAKAYAMA TOMONORI .
日本专利 :JP2025075041A ,2025-05-14
[10]
鉄酸化物薄膜およびその製造方法[ja] [P]. 
ABE YOTSUGI .
日本专利 :JP2025036403A ,2025-03-14