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酸化物薄膜形成方法及び酸化物薄膜形成装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160021143
申请日
:
2016-02-05
公开(公告)号
:
JP6813824B2
公开(公告)日
:
2021-01-13
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C16/455
IPC分类号
:
C23C16/40
C23C16/458
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
金属酸化物薄膜形成装置及び金属酸化物薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019098289A1
,2020-11-19
[2]
金属酸化物薄膜形成装置及び金属酸化物薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6924515B2
,2021-08-25
[3]
酸化物薄膜の形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015011855A1
,2017-03-02
[4]
酸化物薄膜の形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6005288B2
,2016-10-12
[5]
酸化物薄膜の形成方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6484892B2
,2019-03-20
[6]
酸化物薄膜の形成方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015093389A1
,2017-03-16
[7]
酸化物形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5889959B2
,2016-03-22
[8]
酸化物形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5762705B2
,2015-08-12
[9]
薄膜形成方法及び薄膜形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008050618A1
,2010-02-25
[10]
薄膜形成装置及び薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005116293A1
,2008-04-03
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